Application of ALD technique to fabricate protective thin films used
in optical filters
Małgorzata Okrasaa , Małgorzata Cichowlasa *, Michał Puchalskib
a Centralny Instytut Ochrony Pracy – Państwowy Instytut Badawczy, Łódź; b Politechnika Łódzka
DOI: 10.15199/62.2025.2.4